在光通信器件制造中，PLC（平面光波导）芯片与光纤阵列的UV胶粘接精度直接影响光信号的耦合效率与传输损耗。复坦希（北京）电子科技有限公司的UVLED面光源系列产品，凭借高能量均匀性、精准波长控制及低温固化特性，为该类精密粘接提供了定制化解决方案，有效解决传统工艺中耦合损耗大、胶层应力集中等难题。
精密粘接的核心挑战与技术突破
PLC芯片与光纤阵列粘接面临三大工艺难点：
-微米级精度要求：光纤与波导的对准精度需控制在±1μm，胶层厚度仅5-10μm，传统固化工艺易因胶层收缩导致位置偏移；
-热敏感特性：PLC芯片的硅基材料与光纤涂覆层对温度敏感，高温会导致波导折射率变化，影响光传输性能；
-固化均匀性：常规光源能量波动大，易造成胶层局部固化不完全，导致粘接强度不一致。
复坦希UVLED面光源通过三大技术创新实现突破：
-精准波长匹配：365nm波长适配大多数UV胶的光引发剂吸收峰，光子能量高，可实现5-10μm薄胶层的快速深层固化；
-高均匀能量输出：采用矩阵式LED芯片与复眼透镜组，能量均匀度达±3%，确保胶层固化一致性，避免因局部未固化导致的应力集中；
-低温冷固化：水冷型面光源工作温度≤45℃，避免PLC芯片与光纤因热应力产生形变，实测固化后波导传输损耗＜0.1dB。
适配PLC芯片与光纤阵列粘接的型号推荐
1.UVSF81T(100100W)水冷型
-技术参数：100×100mm出光尺寸，365nm波长，能量密度10000mW/cm²，水冷散热
-核心优势：
-365nm波长穿透性强，可在5秒内完成10μm胶层固化，适配硅基UV胶；
-水冷系统控制表面温度≤40℃，避免光纤涂覆层热损伤；
-±3%能量均匀度确保多通道光纤阵列的固化一致性，耦合损耗偏差＜0.05dB。
2.UVSF81T(5050)风冷静音型
-技术参数：50×50mm出光尺寸，385nm波长，能量密度5000mW/cm²，风冷散热
-核心优势：
-385nm波长发热量低，适合热敏性PLC芯片，固化温度≤45℃；
-50×50mm出光尺寸适配单通道或小批量光纤阵列粘接，能耗低，适合实验室场景。
固化工艺优化与自动化集成
1.多段式固化程序设计
针对精密粘接需求，复坦希面光源支持分阶段固化：
-预固化阶段：30%能量（3000mW/cm²）低速固化，避免胶层流动导致光纤偏移；
-精确固化阶段：100%能量（10000mW/cm²）快速交联，确保胶层与PLC芯片表面的粘接强度≥30MPa。
2.自动化产线集成能力
设备支持RS232/485通讯接口，可对接视觉定位系统实现：
-动态能量调节：根据光纤阵列位置自动调整能量输出，例如边缘区域增加10%能量补偿；
-多工位同步固化：4通道面光源（如UVSF81T-4）可同时处理4组PLC芯片与光纤阵列的粘接，产能提升至1500组/小时。
实际应用案例：耦合效率与良率提升实证
某光通信模块厂商在1×8光纤阵列与PLC芯片粘接中采用复坦希UVSF81T(100100W)水冷面光源（365nm波长），对比传统汞灯工艺获得显著提升：
-光学性能：固化后平均耦合损耗从0.7dB降至0.25dB，8通道损耗偏差＜0.1dB；
-可靠性：经-40℃~85℃热循环测试1000次，胶层无开裂，光纤位置偏移＜0.5μm；
-生产效率：单批次固化时间从120秒缩短至15秒，配合自动对位系统后良率从80%提升至98%。
选型服务与技术支持
复坦希提供全周期技术服务：
-免费试样测试：针对客户实际使用的UV胶与PLC芯片，提供UVSF81T系列光源的固化效果测试，优化波长与能量参数；
-定制化光学设计：可根据光纤阵列排布定制非标准出光面，例如1×12光纤阵列专用的线型面光源；
-工艺仿真支持：专业工程师通过光场模拟软件，优化光源与光纤阵列的相对位置，确保能量均匀覆盖。
如需获取PLC芯片与光纤阵列UV胶粘接的详细技术方案，欢迎联系复坦希技术团队获取更多资料。
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